Zeit | Montag | Dienstag | Mittwoch | Donnerstag | Freitag |
|---|
| 1.DS07:30 - 09:001. Woche | | | | | Luniak, Marco
P Hybridtechnik/-integration
vereinbarter Ort |
|
| 1.DS07:30 - 09:002. Woche | | | | | Luniak, Marco
P Hybridtechnik/-integration
vereinbarter Ort |
|
| 2.DS09:20 - 10:501. Woche | Langer, Enrico
P Mat. for Nanoel.
vereinbarter Ort |
| | Heinzig, Andrè
Ü Innov SC Devices
vereinbarter Ort | Lienig, Jens
V Entw.Automat.
BAR/0E85/U |
| | Richter, Andreas
Ü OS Mikroelektronik
N63/A001/U |
|
| 2.DS09:20 - 10:502. Woche | Langer, Enrico
P Mat. for Nanoel.
vereinbarter Ort |
| | Lienig, Jens
V Entw.Automat.
BAR/0E85/U |
| | Richter, Andreas
Ü OS Mikroelektronik
N63/A001/U |
|
| 3.DS11:10 - 12:401. Woche | Langer, Enrico
P Mikrofluidik
vereinbarter Ort | Bock, Karlheinz
V MNI
N63/A001/U |
| | Luniak, Marco
V Hybridtechnik/-integration
BAR/0I89/U |
| | |
| 3.DS11:10 - 12:402. Woche | Langer, Enrico
P Mikrofluidik
vereinbarter Ort | Bock, Karlheinz
V MNI
N63/A001/U |
| | Luniak, Marco
V Hybridtechnik/-integration
BAR/0I89/U |
| | |
| 4.DS13:00 - 14:301. Woche | Krinke, Andreas
Ü Entw.Automat.
BAR/0I88/U |
| Richter, Andreas
V Unkonv. Akt.
vereinbarter Ort |
| Mikolajick, Thomas
V Memory Technol. II
BEY/0E17/H |
| Paschew, Georgi/Richter, Andreas
V Mat. for Nanoel.
GÖR/0127/U | von Hauff, Elizabeth
V Plasma Technology
BAR/0E85/U |
| Richter, Andreas
V Mikrofluidik
vereinbarter Ort |
|
| 4.DS13:00 - 14:302. Woche | Langer, Enrico
P Mikrofluidik
vereinbarter Ort | Krinke, Andreas
Ü Entw.Automat.
BAR/0I88/U |
| Richter, Andreas
V Unkonv. Akt.
vereinbarter Ort |
| Mikolajick, Thomas
V Memory Technol. II
BEY/0E17/H |
| Paschew, Georgi/Richter, Andreas
V Mat. for Nanoel.
GÖR/0127/U | von Hauff, Elizabeth
V Plasma Technology
BAR/0E85/U |
| Richter, Andreas
V Mikrofluidik
vereinbarter Ort |
|
| 5.DS14:50 - 16:201. Woche | Langer, Enrico
P Mat. for Nanoel.
vereinbarter Ort |
| Richter, Andreas
Ü Unkonv. Akt.
vereinbarter Ort |
| | von Hauff, Elizabeth
V Plasma Technology
BAR/0E85/U |
| von Hauff, Elizabeth
Ü Plasma Technology
BAR/0E85/U |
|
| 5.DS14:50 - 16:202. Woche | Langer, Enrico
P Mat. for Nanoel.
vereinbarter Ort |
| | | von Hauff, Elizabeth
V Plasma Technology
BAR/0E85/U |
| von Hauff, Elizabeth
Ü Plasma Technology
BAR/0E85/U |
|
| 6.DS16:40 - 18:101. Woche | | | Mikolajick, Thomas
Ü Memory Technol. II
BAR/0218/U |
| Heinzig, Andrè
V Innov SC Devices
N63/A001/U |
| |
| 6.DS16:40 - 18:102. Woche | | | Mikolajick, Thomas
Ü Memory Technol. II
BAR/0218/U |
| Heinzig, Andrè
V Innov SC Devices
N63/A001/U |
| |